第一千零七十七章 碳基芯片的进展 (第3/3页)

 第一步是将碳纳米官提纯到99.9999%，俗称六九纯度，考后生产半导体碳纳米官

    星作区种空基以上的爆弘米管能用十集成田路

    第二步是利用单链DNA来控制碳纳米管构造成集成电路所需的各种结构，自动形成相应

    的节点。

    在这个阶段，所有这些自动组装的节点都还在溶液中

    第一步是创建实际的电路，为此，必须以通常的万式将DNA组件在基底上排好

    这包括在基底上涂上一层薄膜，然后使用光刻机等设备在基底上蚀刻与节点相对应的纳米

    级图案，然后将含有节点的溶液滴到基底上

    通过这种方式，溶液中的节点分布在基底上，但县有那当与纳米级图案京全对应的节点最

    终出在医底白，其也没有排列务的节点则留在基底外部的博房上

    当薄膜最终被移除时，节点可以根据需要有规律地排列

    是的，白前的碳基芯片仍然需要相同的技术，如光刻和电子束蚀刻，来生产纳来级的电子

    零件。

    这井不像有些人认为的那样容易，改变材料就能抛开所有的限制

    这是因为这样的微观水平的加工能力对芯片来说是必要的

    即使不使用光刻技术，也会看黑暗和出明的法离技.………

    苏炎对此也有心理准备，但他还是希望能找到一种不需要光刻技术的工艺

    毕党，加工纳来图形的能力不是只有光刻利机才有的。

    如果他等到国内光刻技术的发展，那就完全是在浪费他所拥有的碳基芯片技术

    查看完数据后，他继续向下滚动页面，很快他就看到了另一篇论文

    基于DNA的高性能碳纳来管场效应晶体管的纳米制备。

    同样的工作是田圆明园职业学院的一位教授发表的

    这篇论文以DNA模板法制备的碳纳米管平行阵列为模型系统，开发了一种固定方法，然

    后进行清洗，将基于碳纳米管阵列的效应晶体管的基本数据传输性能提高10倍以上。。